機臺名稱： 卷對卷式等離子體處理系統
機臺型號： Suncola-RTR2000L-W800H
處理寬幅： 100mm～800mm（可定制）
真空腔：     2000L（可定制）
電源系統： 2KW～10KW等離子體發生源
控制系統： 觸摸屏+PLC自動控制
進氣系統： 標配2路工作氣體，可擴展至5路工作氣
                 體（Ar2、N2、H2、CF4、O2）
機臺用途：用于處理PI聚酰亞胺薄膜、FPC柔性線路板的真空卷對卷設備；
設備特點：主要用于處理100～600mm寬幅之材料，材料在真空室內部水平處理，上下料簡單，可用于刻蝕工藝。